Английская Википедия:Atomic layer etching: история изменений

Материал из Онлайн справочника
Перейти к навигацииПерейти к поиску

Выбор версий: отметьте версии страницы, которые вы хотите сравнить, и нажмите Enter или кнопку ниже.
Пояснения: (текущ.) — отличия от текущей версии; (пред.) — отличия от предшествующей версии; м — малые изменения.

4 февраля 2024

  • текущ.пред. 00:2500:25, 4 февраля 2024‎ EducationBot обсуждение вклад‎ 2703 байта +2703‎ Новая страница: «{{Английская Википедия/Панель перехода}} {{short description|Method that removes material, one 1-atom thick layer at a time}} '''Atomic layer etching''' ('''ALE''') is an emerging technique in semiconductor manufacture, in which a sequence alternating between self-limiting chemical modification steps which affect only the top atomic layers of the wafer, and etching steps which remove only...»
Источник — http://wikihandbk.com/wiki/Английская_Википедия:Atomic_layer_etching