Английская Википедия:Integrated circuit layout design protection: история изменений

Материал из Онлайн справочника
Перейти к навигацииПерейти к поиску

Выбор версий: отметьте версии страницы, которые вы хотите сравнить, и нажмите Enter или кнопку ниже.
Пояснения: (текущ.) — отличия от текущей версии; (пред.) — отличия от предшествующей версии; м — малые изменения.

26 марта 2024

  • текущ.пред. 08:2108:21, 26 марта 2024EducationBot обсуждение вклад 12 723 байта +12 723 Новая страница: «{{Английская Википедия/Панель перехода}} {{Use American English|date = March 2019}} {{Short description|IP protections for computer hardware}} {{Use mdy dates|date = March 2019}} {{one source|date=May 2014}} {{Intellectual property}} Layout designs (topographies) of integrated circuits are a field in the protection of intellectual property. In United States intellectual property law, a "mask work" is a two or thr...»