Русская Википедия:Вакуумное напыление
Вакуумное напыление (Шаблон:Lang-en; напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы) — группа методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.
Различают следующие стадии вакуумного напыления:
- Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление;
- Транспорт пара к подложке;
- Конденсация пара на подложке и формирование покрытия;
Введение
К группе методов вакуумного напыления относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов.
- Методы термического напыления:
- Испарение электронным лучом (Шаблон:Lang-en, electron beam physical vapor deposition, Шаблон:Iw);
- Испарение лазерным лучом (Шаблон:Lang-en).
- Испарение вакуумной дугой (Шаблон:Lang-en): материал испаряется в катодном пятне электрической дуги.
- Эпитаксия молекулярным лучом (Шаблон:Lang-en)
- Ионное распыление (Шаблон:Lang-en): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и поступает на подложку.
- Шаблон:Iw
Применение
Вакуумное напыление применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — проводящих, изолирующих, износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных, антизадирных, барьерных и т. д Процесс используется для нанесения декоративных покрытий, например при производстве часов с позолотой и оправ для очков. Один из основных процессов микроэлектроники, где применяется для нанесения проводящих слоёв (металлизации). Вакуумное напыление используется для получения оптических покрытий: просветляющих, отражающих, фильтрующих.
Материалами для напыления служат мишени из различных материалов, металлов (титана, алюминия, вольфрама, молибдена, железа, никеля, меди, графита, хрома), их сплавов, соединений (SiO2,TiO2,Al2O3). В технологическую среду может быть добавлен химически активный газ, например ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот, кислород. Химическая реакция на поверхности подложки активируется нагревом, либо ионизацией и диссоциацией газа той или иной формой газового разряда.
С помощью методов вакуумного напыления получают покрытия толщиной от нескольких ангстрем до нескольких десятков микрон, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.
См. также
Примечания
Литература
- Mattox, Donald M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing: Film Formation, Adhesion, Surface Preparation and Contamination Control.. Westwood, N.J.: Noyes Publications, 1998. ISBN 0-8155-1422-0.
- Powell, Carroll F., Joseph H. Oxley, and John Milton Blocher (editors). Vapor Deposition. The Electrochemical Society series. New York: Wiley, 1966.
Ссылки
- Русская Википедия
- Страницы с неработающими файловыми ссылками
- Покрытия
- Технологии электроники
- Электровакуумные приборы
- Производственные процессы и операции
- Тонкие плёнки
- Вакуум
- Страницы, где используется шаблон "Навигационная таблица/Телепорт"
- Страницы с телепортом
- Википедия
- Статья из Википедии
- Статья из Русской Википедии