Русская Википедия:ASML

Материал из Онлайн справочника
Перейти к навигацииПерейти к поиску

Шаблон:Компания ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности, необходимого в том числе для изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.

Центральный офис — в Велдховене, там же находятся исследовательские и производственные подразделения, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Акции компании торгуются на AEX и NASDAQ под тикером ASML.

Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography[1], была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Шаблон:Iw и Philips. Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML[2]. C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100[3].

Основной поставщик — германский производитель оптики Zeiss. Ключевые конкуренты — Canon и Nikon.

Продукция

Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем.

Ведущим поставщиком устройств для литографии ASML стала в 2002 году[4]. На 2007 год, ASML имеет долю рынка продаж фотолитографического оборудования в 65 % (во всем мире)[5].

На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм[6] со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (Шаблон:Lang-en2, ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн[6].

В 2009 году ASML разрабатывает установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL[7].

Основные серии литографов ASML[8]:

  • 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
  • 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
  • 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
  • 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
  • 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм

Российские пользователи

В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т[9].

Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С[10][11].

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).

Примечания

Шаблон:Примечания

Ссылки

Шаблон:AEX Шаблон:NASDAQ-100

Партнерские ресурсы
Криптовалюты
Магазины
Хостинг
Разное

  1. ↑ Шаблон:Cite web
  2. ↑ Шаблон:Cite web
  3. ↑ Шаблон:Cite web
  4. ↑ Шаблон:Cite web
  5. ↑ ASML Press release 2007 quarter 4 Шаблон:Wayback «ASML increased global market share measured in net sales to 65 percent in 2007»
  6. ↑ 6,0 6,1 Шаблон:Cite web
  7. ↑ IMEC presents functional 22nm SRAM cells fabricated using EUV technology Шаблон:Wayback. IMEC press release, 22 April 2009.
  8. ↑ Шаблон:Cite web
  9. ↑ Проект «Ангстрем-Т»: первая российская smart-foundry Шаблон:Wayback — Электроника НТБ 2008: «Мы предполагаем работать на уровне 0,11-0,13 мкм. Это возможно, поскольку именно таково технологическое разрешение степперов (литографов) компании ASML.» // electronics.ru
  10. ↑ http://nanotech.iu4.bmstu.ru/learning_program/magistr/doc/primer.docШаблон:Недоступная ссылка "На технологической линии НИИСИ РАН используется проекционная литографическая установка PAS5500/250C фирмы ASML "
  11. ↑ Шаблон:Cite web «с использованием установки пошаговой мультипликации ASML PAS 5500/250С»… «ТП фотолитографии на фабрике НИИСИ РАН.»
Источник — http://wikihandbk.com/ruwiki/index.php?title=Русская_Википедия:ASML&oldid=8567042